Зеленоградский центр микроэлектроники Группы «РОСНАНО» завершил ОКР по созданию первого отечественного фотолитографа с разрешением 350 нм

Литограф — ключевой элемент при производстве микросхем для применения в автомобильной, аэрокосмической отраслях, промышленной автоматике, потребительской электронике и других.

Особенности установки

  • Существенно увеличена площадь рабочего поля — 22×22 мм (vs 3,2×3,2 мм).
  • На ступень больше максимальный диаметр обрабатываемых пластин — 200 мм (vs 150 мм).
  • Впервые использован твердотельный лазер — более мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. В мировой практике для производства таких литографов в качестве источника излучения используется ртутная лампа.

В приемочной комиссии приняли участие представители отраслевых организаций и крупных микроэлектронных производств. Белорусский ПЛАНАР был привлечен в качестве соисполнителя для реализации работ как ключевая организация с профильным научно-техническим заделом всего постсоветского пространства.

В настоящее время ведутся работы по созданию установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 130 нм. Завершение работ запланировано на 2026 год.

Поделиться
Rss-канал